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Derniers développements en CVD: dépôts chimiques à partir de la phase vapeur

Article paru dans l'Actualité Chimique N°55 - octobre 1978
Rédigé par Vuillard G.

Le champs d’application des techniques CVD est de plus en plus vaste. Son extension nécessite une meilleure connaissance des relations entre le procédé de dépôt, les mécanismes physicochimiques, la composition, la structure et les propriétés du produit final.

L’optimisation du rendement et l’abaissement du prix de revient sont actuellement l’objet de recherches poussées, respectant la pureté et les qualités minimales exigées par la technologie utilisatrice. Les progrès sont attendus, soit d’études fondamentales thermodynamiques, hydrodynamiques et cinétiques, soit de l’utilisation de procédés de dépôt nouveaux.

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